IBM aconsegueix reduir la mida dels seus processadors

No hi ha versions revisades d'aquesta pàgina i, per tant, pot no haver estat comprovada la seva qualitat segons els estàndards.

23 de febrer del 2006
Aquest dimarts (21), l'empresa nord-americana IBM va donar a conèixer un nou avanç en la carrera dels microprocessadors, en reduir la grandària de les litografies de 32,5 nanòmetres a 29,9 nm. L'anunci va ser realitzat pel portaveu de IBM, Hans-Juergen Rehm, en el marc de la conferència de Microlitografia SPIE 2006, que es va desenvolupar a la ciutat de San José, Califòrnia. Aquesta reducció va ser possible a causa de l'ús de dos raigs làser, utilitzant un procés de litografia òptica ultraviolada profund (DUV-193 nanòmetres), que a l'actualitat s'empra per a imprimir sobre els circuits d'un xip. L'avanç mostrat en els laboratoris de la IBM permet fabricar processadors de menor grandària i de menor consum d'energia, arribant a un major rendiment.